JoMM“Special Issue on CAD Technologies”特刊发表

2021-01-22 编辑：     

   近期，《Journal of Microelectronic Manufacturing》（JoMM，ISSN：2578-3769）邀请李序武博士（Dr. Shiuh-Wuu Lee，ex-EVP and ex-CTO of SMIC）为本期专栏的客座编辑，出版了主题为“CAD Technologies”的特刊专栏。特刊文章的作者来自Intel、UC Berkeley、TU Braunschweig、U. of Glasgow、Synopsys、ICRD、Anchor Semiconductor、IMECAS等国际著名集成电路企业、大学和研究机构。

　　JoMM旨在发表集成电路制造领域中从基础研究阶段到工业大规模量产阶段的研究成果，目前已被Crossref、DOAJ、CAS、知网、维普等数据库收录。JoMM的发表内容包括但不限于Design、Process、Metrology & Yield Control、Packaging、Materials、Equipment 等方面。

　　

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　　本期特刊文章如下：

　　Guest Editorial: Special Issue on CAD Technologies

　　Shiuh-Wuu Lee

　　2020 JoMM Volume 3, Issue 4: 20030401

　　

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　　BSIM-CMG compact model for IC CAD: from FinFET to Gate-All-Around FET Technology

　　Avirup Dasgupta, Chenming Hu.

　　2020 JoMM Volume 3, Issue 4: 20030402

　　

　　

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　　On the History of the Numerical Methods Solving the Drift Diffusion Model

　　Bernd Meinerzhagen.

　　2020 JoMM Volume 3, Issue 4: 20030403

　　

　　

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　　Nano-Electronic Simulation Software (NESS): A Novel Open-Source TCAD Simulation Environment

　　Cristina Medina-Bailon, Tapas Dutta, Fikru Adamu-Lema, Ali Rezaei, Daniel Nagy, Vihar P. Georgiev, Asen Asenov.

　　2020 JoMM Volume 3, Issue 4: 20030404

　　

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　　First-principles Simulations of Tunneling FETs Based on van der Waals MoTe2/SnS2 Heterojunctions with Gate-to-drain Overlap Design

　　Kun Luo, Kui Gong, Jiangchai Chen, Shengli Zhang, Yongliang Li, Huaxiang Yin, Zhenhua Wu.

　　2020 JoMM Volume 3, Issue 4: 20030405

　　

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　　Material Modeling in Semiconductor Process Applications

　　Boris A. Voinov, Patrick H. Keys, Stephen M. Cea, Ananth P. Kaushik, Mark A. Stettler.

　　2020 JoMM Volume 3, Issue 4: 20030406

　　

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　　Fast and Accurate Machine Learning Inverse Lithography Using Physics Based Feature Maps and Specially Designed DCNN

　　Xuelong Shi, Yan Yan, Tao Zhou, Xueru Yu, Chen Li, Shoumian Chen, Yuhang Zhao.

　　2020 JoMM Volume 3, Issue 4: 20030407

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　　Machine Learning based Optical Proximity Correction Techniques

　　Pengpeng Yuan, Taian Fan, Yaobin Feng, Peng Xu, Yayi Wei.

　　2020 JoMM Volume 3, Issue 4: 20030408

　　

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　　Enabling Variability-Aware Design-Technology Co-Optimization for Advanced Memory Technologies

　　Salvatore M. Amoroso, Plamen Asenov, Jaehyun Lee, Nara Kim, Ko-Hsin Lee, Yaohua Tan, Yong-Seog Oh, Lee Smith, Xi-Wei Lin, Victor Moroz.

　　2020 JoMM Volume 3, Issue 4: 20030409

　　

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　　Pattern-Centric Computational System for Logic and Memory Manufacturing and Process Technology Development

　　Chenmin Hu, Khurram Zafar, Abhishek Vikram, Geoffrey Ying.

　　2020 JoMM Volume 3, Issue 4: 20030410

　　

　　

　　

　　作为开放阅览电子学术期刊，JoMM致力于实现快速发表，稿件录用后即时上线，可阅览、下载、引用。目前JoMM正在进行2021年征稿，并免版面费，同时也在征集Special Issue的专题（topic is open），以及欢迎新编委、同行评审专家加入JoMM，详情请查看官网www.jommpublish.org/.

　　

　　

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