中科院微电子所“28纳米及特色先导工艺集成电路设计产业化关键技术与应用”获北京市科学技术三等奖

   北京市科学技术奖励大会于2019年3月1日上午在北京市会议中心隆重举行。微电子所陈岚研究员团队完成的“28纳米及特色先导工艺集成电路设计产业化关键技术与应用”项目获得2018年北京市科学技术三等奖。

  “28纳米及特色先导工艺集成电路设计产业化关键技术与应用”项目主要完成人为陈岚、尹明会、秦毅、王海永、张贺、徐勤志。团队以集成电路设计重大应用问题为牵引,在国家重大专项和横向经费支持下,深入开展先进纳米集成电路设计产业化关键技术研究。经过近十年的研究积累,在先进纳米工艺的建模仿真技术、高效大版图数据处理技术、基于物理知识库的版图设计方法等方向形成了显著的研究特色和技术优势,研发的先进纳米工艺的可制造性设计解决方案、快速大版图数据处理算法、10多套PDK/iPDK/ePDK以及通用IP电路进入实际应用,通过与国内龙头企业的深度合作,加速了我国自主研发先导工艺的应用推广,推动了微电子产业的发展。

  

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